专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]面对研机-CN201720870642.6有效
  • 王保军;高意凯;刘鹏;周艳岭 - 邢台中伟卓特液压科技有限公司
  • 2017-07-18 - 2018-03-27 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了一种球面对研机,属于机械研磨技术领域,用于研磨缸体和配流盘,包括机箱、设置在所述机箱上并用于安装所述缸体并驱动所述缸体自转的卡盘,设置在所述机箱上用于安装所述配流盘并使配流盘做圆周摆转的摆杆以及设置在所述摆杆上的并用于卡接所述配流盘防止所述配流盘自转的卡接装置,所述配流盘的下表面与缸体的上表面对应接触研磨。
  • 球面
  • [发明专利]面对版曝光机-CN93105471.0无效
  • 武世香;邹斌;陈士芳 - 哈尔滨工业大学
  • 1993-05-05 - 1994-11-09 - G03F7/20
  • 本发明双面对版曝光机,采用真空吸盘作为上下掩膜版的固定和可调整对准的机构,利用吸附原理将掩膜版吸在吸盘上,每个吸盘可作多个自由度的调整,具有两个曝光光源并包括一个显微镜。本发明双面对版曝光机可由普通的单面光刻机改造而成。本曝光机可用于制作需双面曝光的各种集成压力传感器和其它半导体器件,以及其它需进行双面图形对准加工的片状材料加工。
  • 双面曝光

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